SHINE+ผ่อนคลาย-MGA / Matrine;กรดไกลซีริเรตินิก;อาร์จินีน

แอปพลิเคชัน

การใช้มาทรินและอาร์จินีนเป็นแคตไอออนและกรดไกลซีร์ไรซิกเป็นแอนไอออน สารประกอบไอออนิกเบสของมาทรินที่มีอัตราส่วนโมลาร์ 1:1:1 ถูกสร้างขึ้นผ่านเทคโนโลยีเกลือยูเทคติก/เกลือไอออนิกเหนือโมเลกุลมันผสมผสานข้อดีของ matrine, กรด glycyrrhizic และ arginine ได้อย่างลงตัวและในขณะเดียวกันก็ช่วยปรับปรุงปัญหาของกรด glycyrrhizic ที่ไม่ละลายน้ำที่อุณหภูมิห้องทำให้ความเป็นกรดของกรดไกลซีร์ไรซิกอ่อนลงและลดการระคายเคืองต่อผิวหนัง ซึ่งช่วยแก้ไขข้อจำกัดในปัจจุบันของกรดไกลซีร์ไรซิกในการใช้งานผสมผสานฟังก์ชันฆ่าเชื้อแบคทีเรียและซ่อมแซมของ Matrineผลการซ่อมแซมของกรด glycyrrhizic;และผลการซ่อมแซมของอาร์จินีนด้วยเทคโนโลยีเกลือยูเทคติก/เกลือไอออนิกระดับโมเลกุล ทำให้ข้อดีของทั้งสามชนิดนี้อ่อนตัวลง และได้วัตถุดิบในการซ่อมแซมที่ไม่รุนแรงและระคายเคืองต่ำ

การประเมินประสิทธิภาพ:

การประเมินการซ่อมแซมหลังออกแดด (UVB): ตัวกลางการอักเสบ (PGE2) -42.28%

การประเมินความปลอดภัย: ปลอดภัยและไม่ระคายเคือง

การประเมิน CAMVA: ไม่ระคายเคือง